silicet AG - chemical etching

Basic

Arbeitsfläche: komplette Vorderseite
geschützt: Rückseite

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Dimension	2"	3"	4"	5"	6"	8"
A - length	105 mm	135 mm	185 mm	200 mm	227 mm	260 mm
B - total width	65 mm	87 mm	132 mm	145 mm	160 mm	212 mm
C - width neck	65 mm	50 mm	80 mm	80 mm	80 mm	80 mm
D - thickness	12 mm	12 mm	12 mm	14 mm	14 mm	14 mm
E - compl. thickness	16 mm	16 mm	16 mm	18 mm	18 mm	18 mm
F - edge exclusion	5 mm	5 mm	5 mm	5 mm	5 mm	5 mm

Basic

Kontaktierung: von der Rückseite
Kontakte: im geschützten Raum
Arbeitsfläche: komplette Vorderseite
geschützt: Rückseite

Horizontal

Horizontale Waferausrichtung
während des Prozesses

BASIC:
Arbeitsfläche: komplette Vorderseite
geschützt: Rückseite

PLUS:
Arbeitsfläche: Vorderseite exkl.
Randausschluß umlaufend 5 mm
geschützt: Rückseite und Rand

125 + 156

BASIC-Twin
Standversion: gleichzeitiges Ätzen von 2 Wafern
gleicher oder unterschiedlicher Größen.
Arbeitsfläche: komplette Vorderseite
geschützt: Rückseite

Batch Processing

Alle silicet Wafer Halter sind chargen-tauglich.
Sowohl Typ BASIC als auch Typ PLUS,
unabhängig davon, ob die Wafer mit oder
ohne Vakuum gehalten und abgedichtet werden

Single Clip

Wafer-Fixierung durch Clip-Ring
Wafer wird gehalten, nicht geschützt

200 x 200

Flexibel für die Aufnahme von gleichen
oder auch unterschiedlichen Formaten

Recticle Holder

Zum Halten von Masken
während der Reinigung

Basic

Basic-Twin

Plus

Pieces

System

Basic

Plus

Trio

Horizontal

Stand

125 + 156

131 + 172

Batch Processing

Trio

Trio Clip

Single Clip

Twin Clip

Free

Net

200 x 200

400 x 400

Recticle Holder

Dimension	2"	3"	4"	5"	6"	8"
A - length	122 mm	145 mm	186 mm	239 mm	239 mm	313 mm
B - total width	80 mm	105 mm	132 mm	190 mm	190 mm	263 mm
C - width neck	80 mm	80 mm	80 mm	80 mm	84 mm	100 mm
D - thickness	12 mm	14 mm	14 mm	14 mm	15 mm	15 mm
E - compl. thickness	21 mm	22 mm	22 mm	22 mm	22 mm	24 mm
F - edge exclusion	5 mm	5 mm	5 mm	5 mm	5,5 mm	5,5 mm